氮化铝膜

氮化铝（AlN）兼具绝缘与一定导电调控能力，在金属零件表面通过PVD沉积AlN膜可实现电磁屏蔽与耐蚀，是电子设备屏蔽与散热兼容的工艺方向。

氮化铝(AlN)兼具绝缘与高导热，是功率器件与电子封装的关键薄膜，真空镀膜可在陶瓷/金属基板上沉积致密AlN纳米膜提升散热绝缘。