多弧离子镀膜在电磁屏蔽上的应用
通讯机箱、屏蔽罩用多弧离子镀做导电膜层:膜层致密导电、结合力强,兼顾电磁屏蔽与防腐,是电子产品屏蔽设计的实用工艺。
光通讯靠反射与透射传递信号,零件表面反射率直接决定插损与效率,金刚石等高反射硬膜兼顾高反射、耐磨与稳定,是光器件的实用镀层。
电子连接器端子长期暴露氧化导致接触电阻升高、信号不稳,TiN致密硬膜抗氧化抗腐蚀、保持低接触电阻,多弧离子镀适合批量端子。
氮化铝(AlN)兼具绝缘与一定导电调控能力,在金属零件表面通过PVD沉积AlN膜可实现电磁屏蔽与耐蚀,是电子设备屏蔽与散热兼容的工艺方向。
5G与智能设备EMI认证要求高,多弧离子镀可在金属与部分塑胶件上沉积连续导电膜实现电磁屏蔽,离化率高、绕镀复杂件,兼顾轻量与信号合规。