在零件表面用真空镀膜技术实现方块电阻特性
方块电阻衡量导电膜的面电阻均匀性：PVD金属膜可在绝缘基材上获得低且均匀的方块电阻，是电磁屏蔽、加热膜、触控电极的基础工艺。
导电膜层
氮化铝电磁屏蔽膜层金属零件表面导电膜及PVD纳米镀膜技术研究
氮化铝（AlN）兼具绝缘与一定导电调控能力，在金属零件表面通过PVD沉积AlN膜可实现电磁屏蔽与耐蚀，是电子设备屏蔽与散热兼容的工艺方向。
多弧离子真空镀膜技术赋能电磁屏蔽镀膜：引领电子设备安全新时代
5G与智能设备EMI认证要求高，多弧离子镀可在金属与部分塑胶件上沉积连续导电膜实现电磁屏蔽，离化率高、绕镀复杂件，兼顾轻量与信号合规。