“镀膜速率快、较佳的薄膜附著性与高薄膜緻密性”。
01 技术革新：多弧离子镀膜的突破
在高科技行业中，先进材料的开发和应用一直是被广泛关注的重点领域。多弧离子真空镀膜技术作为一种先进的薄膜沉积工艺，凭借其独特的离子炮轰击效应，能够有效地调控薄膜的组成、结构和性能。
阴极电弧离子镀膜技术因其镀率高、制程溫度低及附著力优异等特性，已成为硬质薄膜市场之主流制程。
这项技术基于一个简单的原理：在真空腔室内，带负电的阴极靶材与带正电的阳极引弧丝在瞬间接触时，于靶面产生阴极电弧，将欲沉积在基材上的材料原子从靶材激发出来。
透过靶源前端所形成的阴极电弧电浆区，未解离的中性原子被解离成离子，因基材后端附有偏压，离子受到基材上偏压的吸引沉积形成薄膜。
然而，传统多弧离子镀膜技术长期面临着一个严峻挑战——镀膜颗粒（Macroparticles）问题。这些缺陷不仅导致表面粗糙度上升、形成针隙及孔洞，更易在腐蚀环境下触发点蚀及沿隙腐蚀，削弱硬质薄膜应有的耐磨耗及耐腐蚀性能。
02 升级路径：高效能脉冲低缺陷镀膜技术
为解决这一核心瓶颈，业界领先企业开始了技术升级之路。高效能脉冲弧源技术应运而生，成为解决镀膜颗粒问题的有效方案。
部分研究发现，在脉冲工作期间，峰值电流可达数千安培等级，远超过单一弧点可承载的临界电流阈值。
阴极表面瞬间形成多个分裂弧点同时放电，而单一弧点之间又因自体磁场互斥，以>50 m/s的速度呈放射状高速运动，平均停留时间可压缩至仅数微秒尺度。
由于熔池还来不及膨胀即因脉冲结束进入基础电流维持阶段而凝固，形成“爆发→冷却→再爆发”的周期性循环，相比直流弧源，更不易进入因连续放电而造成的阴极表面热失控，源头颗粒数量与尺寸因此大幅下降。
另一项重要创新是磁过滤器的应用。通过在靶座与腔体间安装磁过滤器装置，由外加的磁场施加离子会受到电子与磁场加速作用，沿着线圈管回路行进至基材表面。
而微粒由于本身属于中性粒子不带电荷，因此不受外加线圈磁场影响，会在到达基材前向管壁掉落，进而达到滤除微粒的效果。
03 石墨烯镀膜：PVD技术的新赋能
石墨烯是一种由碳原子组成的二维蜂窝状晶体结构材料，具有优异的导电性、热导率、机械强度等特性。将石墨烯膜应用于电子接插件表面可以有效提高其耐磨性、导电性和抗腐蚀性等关键性能。
多弧离子镀膜技术为石墨烯薄膜的批量生产开辟了新的路径。这项技术能在真空环境中产生高能电弧离子流，将目标材料原子或分子沉积到基片表面，形成致密、均匀的薄膜。
这种工艺具有较高的沉积速率、良好的膜层结构和较强的膜层粘结力等特点，非常适用于电子接插件表面的处理。
2024年6月正式实施的T/CGIA 006.1-2024《石墨烯材料特性参数与测试方法——第1部分：薄膜》标准，为石墨烯薄膜的质量控制提供了明确指导。
该标准采用 “1+N+X”表征法，其中“1”是指石墨烯材料的基础信息和参数，“N”是指除层数之外的若干必要参数，“X”为若干可选参数。
04 量产应用：从工业到消费的多元场景
随着技术突破，多弧离子PVD石墨烯镀膜正从工业应用快速扩展到消费领域。
在电子产业中，石墨烯膜可以作为保护涂层，有效阻隔外部环境对接插件表面的侵蚀，延长其使用寿命。石墨烯膜优异的导电性能可以改善接插件表面的电导特性，提升电子信号的传输效率。
在军工领域，微弧氧化复合多弧离子镀膜技术也展现出独特价值。通过MAO+PVD处理后的试样表面未发现点蚀现象，满足耐蚀实验要求。
试样宏观表面腐蚀前后平整，微观形貌均有不同尺寸大小的孔洞分布，且孔洞大小未增大，孔隙率可以通过增加镀膜的时间的增加来进一步减少。
05 未来展望：石墨烯镀膜的发展前景
随着市场需求不断增长，多弧离子真空技术升级正在加速推进。业界亟需在维持镀膜产能的同时，能显著降低镀膜颗粒数量，进而提升机械性质与结构可靠度的高阶镀膜技术。
纳米级镀膜工艺正在悄然改变材料世界。从航空航天部件到智能手表，从手术刀到新能源电池，PVD镀膜技术穿越工业与生活的边界，成为制造体系与消费体验中不可忽视的一环。
未来，随着多弧离子真空技术的持续升级，石墨烯镀膜还将在新能源、3C电子、半导体封装等新赛道开辟更广阔的应用空间。
西安志阳百纳真空镀膜有限公司成立于2010年，是一家专业真空镀膜加工企业，公司拥有雄厚的技术背景，与多家985高校实验室有合作及技术交流，公司技术人员在真空镀膜行业有资深经历。公司目前有PVD真空多弧离子镀膜和金刚石镀膜设备数台。
表面镀层可选：类金刚石膜Ta-C、石墨烯膜Zy-C.钛、铬、铜、铝、镍、镍、铬、锆等金属单质膜。各种氮化物(比如氮化钛TiN),各种碳化物(比如TiC)，氧化物（TiO2等），碳氮化物等化合物膜层，复合多层膜等。
镀层特点：表面硬度高、致密性好、耐久性强、附着强度高，适合表面要求高的零部件。 可在各种金属，玻璃，陶瓷，塑料，碳纤维上镀以上镀层，镀层厚度200nm~1000nm,普通镀层硬度2000~2500HV(维氏硬度），金刚石镀层硬度7500HV(维氏硬度）
