低温工艺特点：膜层400nm左右，镀膜温度通常低于100℃，有些工艺甚至可在80℃ 下进行
在现代工业制造中，表面处理技术已成为提升产品性能、延长使用寿命的关键环节，而低温石墨烯多弧离子真空镀膜技术正以其卓越的性能和广泛的适用性，引领着这场表面工程的革命。
我公司深耕真空镀膜领域二十余年，始终致力于将最先进的镀膜技术转化为客户的实际生产力。
01 技术原理与核心优势
低温石墨烯多弧离子真空镀膜技术是一种基于物理气相沉积（PVD）的先进表面处理技术。其核心原理是通过真空环境下电弧放电，将靶材金属蒸发并离化成高能等离子体，最终在基材表面形成致密且附着力极强的功能膜层。
低温工艺适应性：在膜层400nm左右，镀膜温度通常低于100℃，有些工艺甚至可在80℃ 下进行，避免高温对塑料基材或精密电子元件的热损伤，显著拓展了应用范围。
高离化率与沉积效率：离化率可达60%-80%，离子能量高，膜层致密性远超传统溅射镀膜或蒸发镀膜。
复杂形状覆盖能力：等离子体绕镀性强，可均匀覆盖异形工件表面，满足精密零件的三维镀膜需求。
环保无污染：全程物理沉积，无化学废液排放，符合绿色制造趋势。
02 石墨烯膜层的卓越性能
石墨烯是一种由单层或少层石墨烯组成的复合材料膜层，其独特的二维晶格结构赋予了该材料优异的力学、热学、电学等性能。
与传统材料相比，金刚石石墨烯膜层展现出极高的硬度、耐磨性和导热性，具有优异的化学稳定性和电子传输特性。
非晶碳石墨烯膜结合了非晶碳和石墨烯的优异特性，具有以下关键优势：
出色的导电性能：非晶碳石墨烯膜具有类似于金属的高导电性，能够有效地传输电流，降低接触电阻。
优异的抗氧化性：能够在接触端子表面形成一层致密的保护层，有效阻隔氧气和水分的侵蚀，提高耐腐蚀性。
出色的机械性能：具有高硬度和良好的耐磨性，能够减少接触端子表面的磨损和损坏。
03 低温工艺的技术突破
传统的离子镀功能性镀膜温度一般都在250℃ 以上，这样的温度不适应于低回火温度的钢材。例如高碳钢、轴承钢的回火温度在195℃ 左右，250℃以上的工作温度会使淬火后的金属基体回火变软，失去使用价值。
我公司开发的低温沉积工艺取得了突破性进展。通过采用高电压、低占空比的轰击法，控制温度升高，实现了低温镀膜。具体工艺参数如下：
04 应用领域与解决方案
低温石墨烯多弧离子真空镀膜技术已在多个领域得到广泛应用：
汽车电子领域：接触端子广泛应用于汽车仪表、信号传输和电源管理系统，其性能对整车的可靠性和安全性至关重要。非晶碳石墨烯膜能够有效保护接触端子，提高其抗腐蚀和耐磨性能。
通信设备领域：在5G、物联网等新一代通信技术中，接触端子的电气性能要求更加严苛。非晶碳石墨烯膜可以显著降低接触电阻，改善信号传输质量。
精密工具与模具：针对钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、刀头等工具，镀制TiN、TiCN、TiC、TiAlN、CrN等超硬功能性金属膜，可显著提高工件硬度、耐磨度和抗腐蚀性。
航空航天部件：为飞机关键零件表面进行PVD镀膜，提供高硬金刚石纳米镀层，满足极端环境下的性能要求。
05 工艺参数与技术数据
经过多年技术积累，我公司已建立起完善的低温石墨烯多弧离子真空镀膜工艺体系：
镀层厚度：20nm-500nm，可根据客户需求精确控制
附着力：通过ISO 26443:2008标准测试，达到最高等级
温度控制：工作温度可控制在100℃，适应多种基材
真空度：可达10⁻³ Pa 级别，确保膜层纯净度
06 未来展望
随着5G、物联网、AI技术的普及，对电磁屏蔽和表面防护的需求呈指数级增长6。石墨烯膜多弧离子真空镀膜工艺无疑是一个值得深入研究的前沿方向。
通过对该工艺的不断优化和创新，我们能够开发出性能更加优异的非晶金刚石类石墨烯膜材料，为众多高科技领域的发展注入新的动力。
我们将持续深耕多弧离子镀膜技术，推动电磁屏蔽镀膜向高性能、多功能化发展，为电子制造、航空航天等领域伙伴提供更加优质的解决方案。
我公司拥有PVD真空多弧离子镀膜和金刚石镀膜设备数台，从事各种工具、刀具、模具、工艺品、装饰品、手术刀、医疗器具、航天航空部件等表面硬质合金镀层加工。
表面镀层可选钛，铬，铜，铝，镍，镍铬等金属或各种合金，各种氮化物。
我们致力于提供高品质镀膜加工，以满足制造业的不断发展需求。可以提供定制化的解决方案，以满足客户对于镀层金属、镀层颜色和镀层厚度的个性化需求。
欢迎各界伙伴携手合作，以创新镀膜技术共筑产品性能新高度，赋能产业升级！
