西安志阳百纳真空镀膜有限公司

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突破极限:PS塑胶表面TiN高硬膜层的低温镀膜革命

一把普通PS塑胶尺的表面硬度,竟超越不锈钢——这并非科幻场景,而是多弧离子真空低温镀膜技术创造的工业奇迹。

在消费电子、汽车配件和高端包装领域,PS(聚苯乙烯)塑胶因成本低、易成型等优势被广泛应用。但其表面硬度低、易划伤、耐磨性差的缺陷,始终制约着产品升级。
传统PVD镀膜技术需300℃以上的沉积温度,而PS塑胶的玻璃化转变温度仅约70~80℃,高温环境下会发生变形甚至熔化。

如何在不损伤基材的前提下,为PS塑胶披上“钛金铠甲”?——多弧离子真空低温镀膜技术的突破,正为这一难题提供完美答案。

01 技术挑战:PS塑胶镀膜的“低温禁区”
PS塑胶的表面强化需同时满足三大矛盾需求:

超低温工艺:沉积温度必须控制在80℃以下,避免基体软化变形;

高膜基结合力:塑胶表面能低,膜层易剥离,需突破附着力瓶颈;

微缺陷控制:塑胶热膨胀系数大,膜层内应力易导致龟裂。

传统方案如喷涂或电镀,存在厚度不均、污染环境等问题,而常规多弧离子镀虽能制备高硬TiN膜层(硬度≥1500HV0.05),但其沉积温度普遍在200~500℃(金属基体常用温度),对塑胶基体无疑是“灭顶之灾”。

02 技术核心:多弧离子真空低温镀膜的全链路创新
针对PS塑胶特性,我司开发了四阶梯度低温镀膜工艺,在保证膜层性能的同时,将沉积温度压缩至80℃以下:

▶ 阶跃一:基体表面能激活(辉光清洗+等离子刻蚀)
在真空腔体内通入氩气(100~180 ml/min),施加-500~-1000 V脉冲偏压

通过辉光放电产生高密度等离子体,清除表面有机污染物

离子轰击使塑胶表面分子链断裂,形成微米级锚固结构,提升表面活性

▶ 阶跃二:TiN过渡层低温沉积(磁控电弧调控)
采用小靶源电流(45~55 A) 配合高负偏压(-200 V) 降低熔滴密度

氮气流量精准控制(180~220 ml/min),抑制反应放热

引入旋转横向磁场(频率100~210 Hz) 分散电弧轨迹,减少局部过热

▶ 阶跃三:TiN功能层低温高速沉积
采用脉冲弧源技术(峰值电流60 A,占空比30%)

沉积温度稳定在75±5℃,膜厚达2~3 μm(沉积速率0.05 μm/min)

膜层硬度达1500 HV0.05(较未镀膜PS提升50倍以上)

▶ 阶跃四:表面致密化处理(等离子体后轰击)
通入氩-氮混合气,以-300 V偏压进行轻离子轰击

消除柱状晶间隙,表面粗糙度Ra<0.1 μm

显著降低针孔率,提升耐腐蚀性

▲ 低温镀膜四阶工艺:从基体预处理到功能层沉积全程温控≤80℃

03 性能突破:数据驱动的TiN膜层优势
通过工艺优化,PS基体TiN镀层实现以下关键性能指标:

性能参数 传 统镀膜(金属基) 我司PS低温镀膜 提升效果
沉积温度 260~500℃ ≤80℃ 降低70%以上
表面硬度 1500~2000 HV0.05 1300~1500 HV0.05 达金属基水平
膜基结合力 30~70 N(金属基) ≥15 N 塑胶基体最佳
表面粗糙度Ra 0.2~0.5 μm <0.1 μm 降低50%
耐盐雾腐蚀时间 – ≥500 h 超国标3倍

更值得一提的是:

结合力革命:通过界面“伪扩散层”设计(偏压600 V瞬时脉冲),使膜/基结合力高达30 N(划痕测试临界载荷),彻底解决塑胶镀膜剥落问题;

耐磨性跃升:Taber磨损测试表明,镀膜PS塑胶的比磨损率降至5.2×10⁻⁶ mm³/N·m,比未镀膜样品提升200倍;

环保优势:全程无氰化物、无酸液排放,符合RoHS及REACH法规。

04 应用场景:从消费电子到医疗设备的全覆盖
高端化妆品包装
应用:口红管、粉盒盖表面镀TiN膜

成效:

抗指甲划伤能力提升,表面经0000#钢丝绒摩擦500次无可见划痕

金属质感与黄金色泽,良品率从85%升至98%

汽车内饰件
应用:仪表盘按键、中控面板

成效:

耐汗液腐蚀性提升,通过96 h人工汗液测试

摩擦系数降至0.15~0.2(类聚四氟乙烯水平)

医疗器械组件
应用:透析仪外壳、手术器械手柄

成效:

表面抗菌率>99.8%(TiN离子抑制微生物吸附)

耐酒精擦拭>10,000次

05 技术展望:低温镀膜的智能化升级
我们正推进第三代智能化低温镀膜系统,实现两大跨越:

工艺AI优化:通过机器学习实时调控弧流、气压、偏压,膜厚波动<±5%(当前±10%);

复合膜开发:TiN/TiAlN多层结构(单层厚50 nm)可将硬度提升至1800 HV0.05,拓展至齿轮、轴承等运动部件。

“以低温之心,铸硬质之魂”——在消费升级与绿色制造的双重浪潮下,这项曾用于航空发动机叶片的技术5,正让普通塑胶焕发高端金属的荣耀。

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